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低温恒温槽使用注意事项

日期:2020-10-26 20:54
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摘要:
     低温恒温反应浴常应用于对半导体制造装置发热部的冷却:单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却:激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。
   1、使用低温槽-低温恒温槽前槽内加入液体介质,介质液面应低于工作台板30mm左右,否则通电工作时会损坏加热器;  
   2、低温恒温槽内液体介质的选用应符合以下原则:    当工作温度在5~85℃时,液体介质一般选用水;     当工作温度在85~95℃时,液体介质可选用15%甘油水溶液;     当工作温度高于95℃时,液体介质一般选用油,并且所选择的油品的开杯闪点值应高于工作温度50℃以上;      
   3、电源:220V50Hz,电源功率应大于仪器的总功率,电源必须有良好“接地”装置;  
   4、仪器应安置于干燥通风处,仪器周围300mm内无障碍物;  
   5、当恒温槽工作温度较高时,应注意不要开启上盖,手勿进入槽内,以防**;  
   6、使用完毕,所有开关置于关闭状态,切断电源;  
   7.仪器应做好经常性清洁工作,保持工作台面和操作面板的整洁;      8. 经常注意观察槽内液面高低,当液面过低时,应及时添加液体介质;考虑到安全因素,我们规定将高于100℃的恒温槽做成内循环。如根据客户要求改成外循环后,客户应特别注意引出管连接处的牢固性,严防脱落,以免**。

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